工藝方案簡述
經(jīng)過溶藥、自動計量加藥、多級混合的原水以一定的流速進入凈水器,經(jīng)噴嘴強化后,通過反應室并經(jīng)同波(或異波)折板進行絮凝后進入斜管沉淀池,沉淀出水再經(jīng)天然石英砂過濾后,排入清水池,污泥通過排泥管排出凈水器外。
一體化全自動反沖洗凈水器是一種新型重力式自動沖洗凈水器,該裝置適合進水濁度≤3000mg/L,出水濁度≤5mg/l。該凈水器集絮凝、反應、沉淀、排污、反沖、污泥濃縮、集水過濾于一體,自動排泥、自動反沖洗。本裝置處理效果好,出水水質優(yōu)良,通過反洗水回流,系統(tǒng)水回收率可達98%,動力消耗省,占地面積小,節(jié)水、節(jié)電,無需人員管理。
a、凝聚反應區(qū):
經(jīng)加藥混合后的原水進入一體化凈水器,首先進入裝置底部的配水區(qū),凈水器的進水為底部配水區(qū)進水,穿孔管布水,確保設備布水均勻,并且每個微孔處水流以一定的流速噴出,使絮狀污泥與原水中的細小礬花充分接觸, 前級混合后的原水在污泥的吸附作用下,進行混凝反應,通過剩余污泥的循環(huán)回流,進行絮凝反應,使進水與污泥具有更大的接觸面積,提高污泥的凝聚效率,使原水中的小礬花凝聚成較大的礬花,為斜管沉降創(chuàng)造有利條件。
b、斜管沉淀區(qū):
沉降區(qū)分為上下兩部分,通過改變上下兩層的斜管的孔徑,提高水力梯度值,依據(jù)淺層沉淀理論,設置了斜管加速沉降,下部反應區(qū)快速形成的大顆粒狀絮體,在兩層斜管之間水流方向發(fā)生改變,將會增加小顆粒絮體間的接觸機會,在流經(jīng)上層斜管時,進一步提高出水水質。
形成的絮狀體懸浮物在一層斜管區(qū)進行整流,一層斜管起均勻布水及導流作用,經(jīng)充分反應后絮狀水體沿二層斜管傾斜方向往上流動,進入沉降區(qū)內(nèi)進行固液分離,沉積下來的污泥在重力及水流推力的作用下,沿斜管傾斜方向往下滑落。
c、污泥區(qū):
斜管沉淀區(qū)沉淀的污泥通過水力的推流及自然沉降,部分經(jīng)水力推動進入污泥區(qū),部分污泥回流進入高濃度混合反應區(qū),為保證污泥區(qū)排泥,每套凈水器污泥區(qū)由隔板分為2個小室,每個室均設有電動排泥系統(tǒng)及輔助排泥裝置。
d、排泥系統(tǒng):
每套凈水器排泥系統(tǒng)由2套電動排泥閥及2套輔助排泥電磁閥組成,排泥管采用穿孔管結構,輔助排泥系統(tǒng)采用穿孔管型式,沿污泥區(qū)底部設置,用于排泥時污泥區(qū)的攪動,以利于污泥排凈。
系統(tǒng)排泥按設定的時間程序進行,每周期每格污泥區(qū)排泥1-3min(排泥時間可調),排泥從每套凈水器的1室至3室逐個進行。
e、集水及濾池配水區(qū):
在沉淀池的清水區(qū)采用可調式三角堰板集水,匯入集水槽,使系統(tǒng)集水均勻。
斜管區(qū)集水槽設有2套配水管,分別進入2個濾池內(nèi),每個濾池的進水配有進水手動調節(jié)閥,可對每個濾池進水流量進行手動調節(jié)及設定。
f、過濾系統(tǒng):
經(jīng)沉淀后的水體由配水槽通過配水管分配進入各個過濾室內(nèi),通過U形水封器配水,并由上而下通過濾料層,濾后水由濾池內(nèi)的連通管在重力作用下至濾室頂部的清水室。清水室出水通過重力自流進入后級凈化水池。
g、濾池虹吸反沖洗系統(tǒng):
每個濾室均配有1套虹吸反沖洗系統(tǒng),過濾系統(tǒng)的反沖洗排水通過重力虹吸原理,通過設定的水頭損失值形成虹吸,利用過濾室清水室內(nèi)的潔凈水及濾后水自動進行反沖洗,過濾層反沖洗水接至下水道進入廠區(qū)總排管網(wǎng)。
斜管沉淀區(qū)出水經(jīng)濾料層過濾一定時間后,由于濾料層的運行阻力逐漸大,虹吸上升管內(nèi)水位逐漸升高,當水位上升至虹吸輔助管位置時,虹吸管內(nèi)空氣隨著虹吸輔助管排水,形成負壓,將虹吸管內(nèi)空氣不斷帶走,使虹吸上升管及虹吸下降管內(nèi)的水位接通,即形成虹吸,過濾室上室清水在清水層的靜壓及真空吸引下迅速反沖洗,裝置內(nèi)清水按照正常運行路徑反方向返回,當清水經(jīng)過濾料層時即開始對濾料進行反沖洗,濾室的反洗強度通過排水管管口的錐形調節(jié)板來調整,設定反洗強度及反洗時間,每次反沖洗歷時4~6分鐘。反洗強度為14-16L/m2.s。
h、在凈水器進水母管上配有氣水分離器,防止氣水混合物進入凈水器,在工藝中由于水中的微氣泡將影響凝聚效果,水中溶解氣體在壓力下降的情況下將產(chǎn)生微氣泡溢出水面,凝聚后的絮狀體將在微氣泡的作用下浮出沉淀區(qū)的水面,形成漂浮物,影響沉淀效果,使出水水質惡化,氣水分離器設自動排氣電磁閥,自動排氣。
一體化凈水設備由凈水設備主體、加藥裝置、電控系統(tǒng)、管路及其他附屬配件組成。
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